武汉东湖高新集团股份有限公司官网

重慶兩江新區半導體產業園項目落戶兩江新區水土高新園，位于方正大道與云漢大道西北交匯處，占地377畝，總建筑面積約44萬平方米。兩江半導體產業園定位為中國西部半導體發展新引擎、重慶半導體產業創新示范基地。未來將被打造成一個以半導體產業為核心，ＩＣ設計為重點，輻射汽車電子、人工智能、物聯網、智能終端等產業，承載公共服務平臺、產業創新孵化、研發設計總部、產業應用延伸等功能的特色園區。園區產品類型豐富，除了企業總部獨棟、多層標準廠房、高層研發樓、地標建筑研發樓外，還將依托政府搭建一個可滿足ＩＣ設計企業流片、封裝測試等需求于一體的半導體產業公共服務平臺，以滿足IC設計類企業的需求。